Vysokokvalitný filter K&F Concept Nano-X pre objektívy s priemerom 40,5 mm poskytuje odolnosť voči poškodeniu a účinnú elimináciu odleskov, ideálny pre fotografovanie dynamických scén.
Vysokokvalitný filter K&F Concept Nano-X pre objektívy s priemerom 40,5 mm poskytuje odolnosť voči poškodeniu a účinnú elimináciu odleskov, ideálny pre fotografovanie dynamických scén.
Filter K&F Concept Nano-X bol navrhnutý so zreteľom na maximálny výkon a kvalitu spracovania.
Kľúčové vlastnosti:
- Možnosť nastavenia od ND2 do ND32 na reguláciu svetla.
- Vysoká priepustnosť svetla vďaka kvalitnému sklu AGC.
- 28 nanovrstiev poskytujúcich ochranu voči vode, poškriabaniu a odleskom.
- Vyhotovenie eliminuje efekt X, vznikajúci pri nesprávnom prekrytí filtrov.
- Jednoduchá inštalácia vďaka protišmykovému vyhotoveniu.
